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當(dāng)前位置：上海添時(shí)科學(xué)儀器有限公司>>合肥科晶總代理>>新型設(shè)備>> VTC-16-SM2單靶直流磁控濺射儀
用直流磁控濺射儀可獲得單相Al膜
技術(shù)參數(shù)
| 輸入電壓 | AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz |
| 輸入功率 | < 2000W |
| 輸出功率 | 電壓：1600VDC;大電流：150mA |
| 腔體 | 石英腔體：167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height |
| 2英寸帶水冷磁控濺射頭 | |
| 濺射頭和樣品臺(tái) | 一個(gè)直徑50mm不銹鋼樣品臺(tái),樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn),旋轉(zhuǎn)速率0 - 5 RPM |
| 配有一手動(dòng)操作的擋板，包含靶頭支撐架 | |
| 樣品臺(tái)和靶頭之間的距離可以調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)范圍：60-100mm | |
| 控制面板 | 6" PLC集成觸摸屏控制面板，可控制真空、電流、靶材位置和基片加熱溫度 |
| 雙極旋片真空泵VRD-8，KF25接口 | |
| 附件（可選） | KF25不銹鋼波紋管 |
| 10L/min 循環(huán)水冷機(jī)冷卻磁控靶頭 | |
| 氣氛 | 含一個(gè)控制進(jìn)氣的針閥和一個(gè)放氣閥 |
| 靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm | |
| 靶材 | 適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金屬，可選購 |
| 可選配件 | 膜厚監(jiān)測(cè)儀 |
| 分子泵，可獲得高真空， >10E-5 torr | |
| 為獲得好的薄膜強(qiáng)度，建議鍍膜前用等離子清洗機(jī)對(duì)基片進(jìn)行清洗。 | |
| 500度樣品加熱臺(tái) | |
| 體積 | ( L 440mm×W 330mm × H 290mm |
| 凈重 | 20 kg ( not included pump ) |
| 質(zhì)保和證書 | 一年質(zhì)保，終生維護(hù) |
| CE認(rèn)證 | |
| 磁控濺射鍍膜知識(shí) | 與客戶分享新的磁控濺射鍍膜技術(shù)，請(qǐng)點(diǎn)擊文章鏈接- Plasma Sputter Coating. |
